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原子層沉積技術(shù)經(jīng)過四十多年的發(fā)展，無論是在沉積材料的種類還是具體沉積方法的擴(kuò)展與改進(jìn)上，都已經(jīng)取得了長足進(jìn)步，在眾多領(lǐng)域更是展現(xiàn)出令人期待的商業(yè)前景。但傳統(tǒng)的熱原子層沉積技術(shù)在發(fā)展過程中仍面臨著一些挑戰(zhàn)。比如：原子層沉積前驅(qū)體往往都是金屬有機(jī)化合物，合適的前驅(qū)體種類較少而且價格昂貴；傳統(tǒng)熱原子層沉積技術(shù)因需要長時間的惰氣吹掃以保證隨后的表面自限制薄膜生長，沉積速率較慢，不適合大規(guī)模工業(yè)生產(chǎn)；此外，熱原子層沉積技術(shù)難以用來沉積金屬Ti，Ta等特殊材料。隨著原子層沉積技術(shù)與其他先...

ICP刻蝕機(jī)作為核心刻蝕工藝設(shè)備，其工藝表現(xiàn)將直接影響鰭式晶體管器件的工藝性能和良率，憑借其優(yōu)良的刻蝕形貌控制、均勻性控制、較低刻蝕損傷、較高刻蝕選擇比等方面的技術(shù)優(yōu)勢，隨著半導(dǎo)體工藝技術(shù)的發(fā)展，濕法刻蝕由于其固有的局限性，已不能滿足超大規(guī)模集成電路微米、甚至納米級細(xì)線條的工藝加工要求，干法刻蝕逐漸發(fā)展起來。在干法刻蝕中，感應(yīng)耦合等離子體(InductivelyCoupledPlasma簡稱ICP)刻蝕法由于其產(chǎn)生的離子密度高、蝕刻均勻性好、蝕刻側(cè)壁垂直度高以及光潔度好，逐漸...

在各種集成電路的制造過程中，隨著清洗方法的不斷創(chuàng)新與聯(lián)合應(yīng)用，目前的硅片清洗機(jī)已不再是一個簡單的制作步驟，而是一個系統(tǒng)的清洗工程。硅片清洗技術(shù)的革新與發(fā)展，推動了清洗設(shè)備制造企業(yè)加大研發(fā)力度，不僅僅是制造出設(shè)備，從某個角度來說，還需根據(jù)各家硅片生產(chǎn)企業(yè)的具體情況提供不同的清洗方案和設(shè)備定制設(shè)計，幫客戶大限度地降低成本和減少損失，同時盡量減少清洗設(shè)備本身可能帶來的沾污。未來的硅片清洗機(jī)將向整合性，集成化與全自動的方向發(fā)展。由于硅片表面的污染物會嚴(yán)重影響器件的性能、可靠性和成品率...

硅片清洗機(jī)不僅保留了超聲波清洗的優(yōu)點，而且克服了超聲波清洗的缺點。兆聲無損清洗機(jī)的工作原理是利用高能（850kHz）頻率效應(yīng)和化學(xué)清洗劑的化學(xué)反應(yīng)對硅片進(jìn)行清洗。在清洗過程中，換能器發(fā)出的高能聲波波長為1m，頻率為0.8MHZ。在聲波的驅(qū)動下，溶液的分子運(yùn)動得更快。瞬時速度可達(dá)30cm/s。因此，無法形成超聲清洗等氣泡。相反，硅片清洗機(jī)只能用高速的流體波不斷地沖擊晶圓片表面，迫使附著在晶圓片表面的微小污染物顆粒被去除并進(jìn)入清洗溶液中。經(jīng)濟(jì)的發(fā)展，人們的生活水平不斷提高，對消費(fèi)...

影響一面平面透鏡的透光度有許多成因。鏡面的粗糙度會造成入射光的漫射，降低鏡片的透光率。此外材質(zhì)的吸旋光性，也會造成某些入射光源的其中部分頻率消散的特別嚴(yán)重。例如會吸收紅色光的材質(zhì)看起來就呈現(xiàn)綠色。不過這些加工不良的因素都可以盡可能地去除。光學(xué)鍍膜系統(tǒng)我們知道是由于現(xiàn)代光學(xué)和光電系統(tǒng)重要的組成部分，在光通信、光顯示、激光加工、激光融合等高技術(shù)和工業(yè)領(lǐng)域，技術(shù)突破往往成為現(xiàn)代光學(xué)和光電子系統(tǒng)加速發(fā)展的主要原因。光學(xué)鍍膜的技術(shù)性能和可靠性直接影響到應(yīng)用系統(tǒng)的性能、可靠性和成本。隨著...

通?？諝獾某煞帜軌蚩醋饔山^干空氣、水汽、塵土三有些組成。熱真空試驗箱溫度為音準(zhǔn)空氣在必定壓力及溫度下所含水汽的質(zhì)量。飽和濕度為單位空氣在該條件下所能包括的大水汽質(zhì)量。溫度超市，空氣中所能包括的水汽越多，飽和濕度越大。濕度與飽和濕度的比值為相對濕度。假如堅持空氣的濕度而下降空氣的溫度，當(dāng)溫度低至必定值后，水蒸汽的分壓力到達(dá)對應(yīng)于其時空氣溫度的飽和壓力，該條件下的空氣中水汽就到達(dá)飽和。假如進(jìn)一步下降空氣溫度，水汽就會從空氣中冷凝析出構(gòu)成“露滴”。這種表象被稱為“凝露”。熱真空試驗...

在早些年前ICP刻蝕機(jī)在行業(yè)內(nèi)幾乎都統(tǒng)稱為觸摸屏激光刻蝕機(jī)，在觸摸屏行業(yè)內(nèi)得到了廣泛應(yīng)用，手機(jī)電阻屏、電容屏的發(fā)展也讓激光刻蝕機(jī)廠家發(fā)展發(fā)生了質(zhì)的變化，主要體現(xiàn)為ITO玻璃激光刻蝕、銀漿玻璃激光刻蝕等，也有一部分是ITO薄膜與銀漿薄膜刻蝕。ICP刻蝕機(jī)是基于真空中的高頻激勵而產(chǎn)生的輝光放電將四氟化碳中的氟離子電離出來從而獲得化學(xué)活性微粒與被刻蝕材料起化學(xué)反應(yīng)產(chǎn)生輝發(fā)性物質(zhì)進(jìn)行刻蝕的。同時為了保證氟離子的濃度和刻蝕速度必須加入一定比例的氧氣生成二氧化碳。ICP刻蝕機(jī)主要對太陽能...

2019年7月16日，我司成功中標(biāo)西安電子科技大學(xué)等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積設(shè)備采購招標(biāo)項目。本項目選用NANO-MASTER設(shè)計生產(chǎn)的NPE-4000系統(tǒng)，該系統(tǒng)為緊湊型設(shè)計PC控制的獨(dú)立式下游式PECVD系統(tǒng)，占地面積僅為26”x44”（包含自動LoadLock單元）,不銹鋼立柜。本設(shè)備有以下主要突出優(yōu)勢：根據(jù)客戶的具體應(yīng)用和需求，配置NANO-MASTER設(shè)計的中空陰*密度離子源。帶淋浴頭的平面離子源，具有離子密度高、電子溫度低以及腔體占空比低的特點，從而帶來高速、超低損傷...